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干涉光刻技术

时间:2026-02-20 03:04:00 浏览:854次

干涉光刻技术

英文:interference lithography(IL)

定义:干涉光刻技术是一个无需用到复杂的光学系统或光掩膜而制备精细结构的技术手段。

想要了解更多“干涉光刻技术”的信息,请点击:干涉光刻技术百科

标签:干涉光刻技术,光刻,干涉,技术

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