刻蚀工艺 时间：2026-04-14 10:52:00 浏览：818次 刻蚀（Etch）的目的是将光刻得到的光刻胶图形转移到晶圆表面的薄膜上,即利用光刻胶膜的覆盖和保护作用，以化学反应或物理作用的方式去除没有光刻胶保护的薄膜，完成图形转移的目的。想要了解更多“刻蚀工艺”的信息，请点击：刻蚀工艺百科 标签：刻蚀工艺,刻蚀,工艺,分类
